DNP、2nm世代のEUV露光向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格開始
マイナビニュース2024年3月27日(水)17時26分
大日本印刷(DNP)は3月27日、半導体製造の最先端プロセスの製造に用いられるEUVリソグラフィに対応する2nm世代のロジック半導体向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に開始したことを発表した。
併せてRapidusが参画している新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」に再委託先として参画し、同製造プロセスおよび保証にかかわる技術の提供を行うことも発表した。
すでに同社はマルチ電子ビーム(EB)マスク描画装置の導入などにより、2023年に3nm世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスの開発を完了していた。今回の取り組みでは、2024年度中に2台目ならびに3台目のマルチEBマスク描画装置を稼働させることで、2nm世代のEUVリソ向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格化させていき、2025年度までに開発を完了させる計画。また2026年度以降は、2027年度のRapidusの量産開始計画に向けて、生産技術の確立を進めていく予定としている。
なお、同社では2nm以降の微細プロセスの実現に向けた取り組みとして、ベルギーimecと次世代EUVフォトマスクの共同開発に関する契約も締結したとしており、国際的な半導体産業において、さまざまなパートナーと連携して開発を推進していくとしている。
併せてRapidusが参画している新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の「ポスト5G情報通信システム基盤強化研究開発事業」に再委託先として参画し、同製造プロセスおよび保証にかかわる技術の提供を行うことも発表した。
すでに同社はマルチ電子ビーム(EB)マスク描画装置の導入などにより、2023年に3nm世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスの開発を完了していた。今回の取り組みでは、2024年度中に2台目ならびに3台目のマルチEBマスク描画装置を稼働させることで、2nm世代のEUVリソ向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格化させていき、2025年度までに開発を完了させる計画。また2026年度以降は、2027年度のRapidusの量産開始計画に向けて、生産技術の確立を進めていく予定としている。
なお、同社では2nm以降の微細プロセスの実現に向けた取り組みとして、ベルギーimecと次世代EUVフォトマスクの共同開発に関する契約も締結したとしており、国際的な半導体産業において、さまざまなパートナーと連携して開発を推進していくとしている。
「製造」をもっと詳しく
「製造」のニュース
-
AKT Healthが「第二種医療機器製販業」許可を取得、「医療機器製造業」に登録5月9日17時16分
-
文書管理、在庫管理、CAPA管理システム等を内製化した結果、PHARM TECH JAPANに 当社関連記事が掲載されました5月9日16時16分
-
【土屋鞄製造所 ミナ ペルホネン】コラボランドセルの限定描き下ろし柄 原画展を開催5月9日12時46分
-
TOPPAN Gravity、エチオピアのパスポート製造発行工場をエチオピア政府との合弁で新設5月9日12時46分
-
DJI製無人航空機のレベル3/3.5飛行への対応について5月9日10時46分
-
B787主翼製造の三菱重工、ボーイング検査問題に「出荷停滞すれば事業に影響」5月8日20時4分
-
大王製紙がCNF複合樹脂「ELLEX-R67」の商用プラント設置を決定5月8日18時16分
-
『ガールズバンドクライ』の新商品が発売決定!5月8日16時16分
-
キリンの富士御殿場蒸溜所が50周年、「シングルグレーンジャパニーズウイスキー 富士 50th Anniversary Edition」発売5月8日15時34分
-
タカラ工業とタカラ樹脂工業のコラボにより、多種多様な製造・加工が実現!老舗の技術と経験が10〜30代の若手職人に受け継がれ活気のあふれる現場。多様な設計開発から製造納品まで一貫してサポート致します。5月8日15時16分