直径3ミクロン（3/1000mm）程度の微細な液滴を亜音速（250m/sec）で噴射する次世代洗浄ノズル販売開始のお知らせ
2024年1月17日（水）10時46分 PR TIMES
水だけを使って半導体から野菜までをノンダメージで洗浄できる高速ミストを噴出するノズルです。一般的な高圧洗浄機の約1/6000の水量で油汚れさえ落とすことが可能であり、特許を取得しています。
「洗浄」は、ほぼ全ての工業分野や食品分野において欠かすことが出来ない工程である。
工業分野の中でも、特に近年注目を集めているのが半導体産業であるが、製造工程における洗浄は莫大な水を必要とするため、工場の立地条件としては先ず水が豊富であることが求められます。
しかしながら、地球温暖化による異常現象により世界的な水不足は年々深刻化しており、2015年の段階で既に全世界で約6.6億人が安全な飲料水を利用できない生活環境にあるとされています。
更に、世界的な水不足は今後も深刻化することが予想されており、2030年に世界全体で必要とされる水量は年間約6.9兆㎥と見込まれていますが、現存する水の供給量はその約6割に留まっているのが現状であることから、持続可能な社会実現のためにも節水はこれから益々重要なキーワードになります。
本提案の高速パワーミストは、微粒化した液滴（水滴）を亜音速で噴射させることにより、対象物にダメージを与えることなく極微量の水だけで洗浄する新たな洗浄技術であり、特許も取得しています。
上述のとおり、特に半導体製造工場は非常に大量の水を使います。更に超純水を使いますので、水の量もさることながら同時に超純水を作るための大量の電力も必要になります。しかしながら、本提案の高速パワーミストによる気相洗浄であれば使用する水量が極めて少なくてすみますので、水だけでなく洗浄後の排水や超純水製造に使用する電力量も大幅に削減することが可能になります。
また、半導体の製造工程数は500以上と言われていますが、その30〜40％は洗浄工程のため工場全体に占める洗浄装置の面積も広く必要です。本提案の高速パワーミストは気相洗浄ですので水槽が不要となるため装置自体も大幅な小型化が可能になると思われます。
先ず、「位相レーザードップラー粒子分析計」で計測した高速パワーミストの分析結果をお伝えします。
・エアー圧力：0.4MPa
[画像1: https://prtimes.jp/i/40919/7/resize/d40919-7-d77c1aff424c1849f8e2-0.jpg ]
・エアー圧力：0.6MPa
[画像2: https://prtimes.jp/i/40919/7/resize/d40919-7-e7664ddca65867f3083f-0.jpg ]
石英ガラス加工後の洗浄テスト画像
[画像3: https://prtimes.jp/i/40919/7/resize/d40919-7-01cca1a67fc22dadabfd-0.jpg ]
[画像4: https://prtimes.jp/i/40919/7/resize/d40919-7-2fb2acf673c82fc80e73-3.jpg ]
次に、高速パワーミストの洗浄力を動画でお伝えします。
１.連続噴射
[動画1: https://www.youtube.com/watch?v=7RVdHMc6DhE ]
２.間欠噴射
[動画2: https://www.youtube.com/watch?v=2fY02CEZB6g ]
３.水を使って油汚れを洗浄
[動画3: https://www.youtube.com/watch?v=j-TMK-pqmYg ]
４.水を使って油性マジックを洗浄
[動画4: https://www.youtube.com/watch?v=jxo2p6jIo7I ]
５.アルカリ水を使って油性マジックを洗浄
[動画5: https://www.youtube.com/watch?v=pmzPVqXdOpQ ]
最後に、本提案の高速パワーミストの長所および用途をお伝えします。
長所）
・微細深孔内のパーティクルが洗浄可能
・油汚れを水だけで洗浄できる
・洗浄力は高いが洗浄対象物にダメージを与えない
・使用水量は高圧洗浄機の約1/6000（1ml/min）
・使用水量削減による排水処理設備が簡素化できる
・気相洗浄により水槽が不要なため、装置がコンパクトになる
・工場用地を選択する際、水事情を含む条件が簡素化される
用途）
・半導体製造工程の洗浄
・精密加工部品の洗浄
・圧延などの加工部品の洗浄
・切削研削加工時の冷却および切粉除去
・野菜、果物の洗浄
・その他洗浄
当社は、マイクロナノバブルを含む特許を数多く保有し、多くの大学や企業様に技術提供をしています。
その技術を応用し自社製品として、マイクロバブルシャワーヘッドや界面活性剤・防腐剤無添加の化粧品の製造販売を行っており、 「マイクロナノバブル技術」で人や環境にやさしいモノづくりを目指しています。
【会社概要】
会社名：株式会社オーラテック
本社所在地：福岡県筑後市水田1233-1
代表者：江口俊彦
設立：1986年4月
URL： https://aura-tec.com/
事業内容：
・環境関連機器の開発・製造・販売
・マイクロナノバブル（超微微細気泡）生成技術を使った製品開発、販売
・高速パワーミスト発生技術を使った製品開発、販売
・無添加化粧品製造販売
「洗浄」は、ほぼ全ての工業分野や食品分野において欠かすことが出来ない工程である。
工業分野の中でも、特に近年注目を集めているのが半導体産業であるが、製造工程における洗浄は莫大な水を必要とするため、工場の立地条件としては先ず水が豊富であることが求められます。
しかしながら、地球温暖化による異常現象により世界的な水不足は年々深刻化しており、2015年の段階で既に全世界で約6.6億人が安全な飲料水を利用できない生活環境にあるとされています。
更に、世界的な水不足は今後も深刻化することが予想されており、2030年に世界全体で必要とされる水量は年間約6.9兆㎥と見込まれていますが、現存する水の供給量はその約6割に留まっているのが現状であることから、持続可能な社会実現のためにも節水はこれから益々重要なキーワードになります。
本提案の高速パワーミストは、微粒化した液滴（水滴）を亜音速で噴射させることにより、対象物にダメージを与えることなく極微量の水だけで洗浄する新たな洗浄技術であり、特許も取得しています。
上述のとおり、特に半導体製造工場は非常に大量の水を使います。更に超純水を使いますので、水の量もさることながら同時に超純水を作るための大量の電力も必要になります。しかしながら、本提案の高速パワーミストによる気相洗浄であれば使用する水量が極めて少なくてすみますので、水だけでなく洗浄後の排水や超純水製造に使用する電力量も大幅に削減することが可能になります。
また、半導体の製造工程数は500以上と言われていますが、その30〜40％は洗浄工程のため工場全体に占める洗浄装置の面積も広く必要です。本提案の高速パワーミストは気相洗浄ですので水槽が不要となるため装置自体も大幅な小型化が可能になると思われます。
先ず、「位相レーザードップラー粒子分析計」で計測した高速パワーミストの分析結果をお伝えします。
・エアー圧力：0.4MPa
[画像1: https://prtimes.jp/i/40919/7/resize/d40919-7-d77c1aff424c1849f8e2-0.jpg ]
・エアー圧力：0.6MPa
[画像2: https://prtimes.jp/i/40919/7/resize/d40919-7-e7664ddca65867f3083f-0.jpg ]
石英ガラス加工後の洗浄テスト画像
[画像3: https://prtimes.jp/i/40919/7/resize/d40919-7-01cca1a67fc22dadabfd-0.jpg ]
[画像4: https://prtimes.jp/i/40919/7/resize/d40919-7-2fb2acf673c82fc80e73-3.jpg ]
次に、高速パワーミストの洗浄力を動画でお伝えします。
１.連続噴射
[動画1: https://www.youtube.com/watch?v=7RVdHMc6DhE ]
２.間欠噴射
[動画2: https://www.youtube.com/watch?v=2fY02CEZB6g ]
３.水を使って油汚れを洗浄
[動画3: https://www.youtube.com/watch?v=j-TMK-pqmYg ]
４.水を使って油性マジックを洗浄
[動画4: https://www.youtube.com/watch?v=jxo2p6jIo7I ]
５.アルカリ水を使って油性マジックを洗浄
[動画5: https://www.youtube.com/watch?v=pmzPVqXdOpQ ]
最後に、本提案の高速パワーミストの長所および用途をお伝えします。
長所）
・微細深孔内のパーティクルが洗浄可能
・油汚れを水だけで洗浄できる
・洗浄力は高いが洗浄対象物にダメージを与えない
・使用水量は高圧洗浄機の約1/6000（1ml/min）
・使用水量削減による排水処理設備が簡素化できる
・気相洗浄により水槽が不要なため、装置がコンパクトになる
・工場用地を選択する際、水事情を含む条件が簡素化される
用途）
・半導体製造工程の洗浄
・精密加工部品の洗浄
・圧延などの加工部品の洗浄
・切削研削加工時の冷却および切粉除去
・野菜、果物の洗浄
・その他洗浄
当社は、マイクロナノバブルを含む特許を数多く保有し、多くの大学や企業様に技術提供をしています。
その技術を応用し自社製品として、マイクロバブルシャワーヘッドや界面活性剤・防腐剤無添加の化粧品の製造販売を行っており、 「マイクロナノバブル技術」で人や環境にやさしいモノづくりを目指しています。
【会社概要】
会社名：株式会社オーラテック
本社所在地：福岡県筑後市水田1233-1
代表者：江口俊彦
設立：1986年4月
URL： https://aura-tec.com/
事業内容：
・環境関連機器の開発・製造・販売
・マイクロナノバブル（超微微細気泡）生成技術を使った製品開発、販売
・高速パワーミスト発生技術を使った製品開発、販売
・無添加化粧品製造販売
